TOP RING
- 식각공정
플라즈마 에칭 공정의 핵심부품으로 챔버 내의 플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록
안내해주는 역할과 하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
BOTTOM RING
- 식각공정
하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
SINGLE RING
- 식각공정
플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록 안내해주는 단일 구조의
부품 입니다.
BAFFLE
- CVD 공정
돔 내 플라즈마 환경에서 공정 진행 시 투입 되는 가스 및 식각 잔여물의 흐름과 방향을
조절하는 부품 입니다.
NAT GATE SHIELD
- CVD 공정
챔버 내 플라즈마 환경에서 웨이퍼 투입 및 반출 되는 게이트의 보호 및 최적의 공정 환경을
만들어 주는 부품 입니다.