COMBO RING
- 식각공정
플라즈마 에칭공정의 핵심부품으로 챔버 내의 플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록
안내해주는 역할과 하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
SINGLE RING
- 식각공정
플라즈마 에칭공정의 핵심부품으로 챔버 내의 플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록
안내해주는 역할과 하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
FOCUS RING
- 식각공정
플라즈마 에칭공정의 핵심부품으로 챔버 내의 플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록
안내해주는 역할과 하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
TOP RING
- 식각공정
플라즈마 에칭공정의 핵심부품으로 챔버 내의 플라즈마가 웨이퍼에 균일하게 가도록
안내해주는 역할과 하부의 ESC(정전척)을 보호하는 부품입니다.
DOME
- CVD공정
외부에 전극을 걸어 진공 챔버 내부에서 플라즈마를 형성하여 균일한 공정이 진행될 수
있도록 하는 중요한 부품입니다.
UEL PLATE
- 식각공정
외부에 전극을 걸어 진공 챔버내부에서 플라즈마를 형성하여 균일한 공정이 진행될 수
있도록 하는 중요한 부품입니다.
TUBE
- CVD공정
외부에 전극을 걸어 진공 챔버 내부에서 플라즈마를 형성하여 균일한 공정이 진행될 수
있도록 하는 중요한 부품입니다.
LINER
- CVD공정
진공 챔버 내의 플라즈마 환경에서 챔버를 보호하고 최적의 환경을 만들어주는
중요한 부품입니다.